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《2025最新FPC柔性电路板制造工艺技术》



                柔性电路板(Flexible Printed Circuit 简称FPC)是以聚酰亚胺或聚酯薄膜为基材制成的一种具有高度可靠性,绝佳的可挠性印刷电路板。具有配线密度高、重量轻、厚度薄、弯折性好的特点。广泛应用于各种高科技领域,包括移动设备、车载系统、医疗设备、工业自动化与电力控制、航空航天与军事等多个领域。


技术特点:

                高效组装:由于柔性电路板已将所有线路配置完成,无需额外排线连接,显著节省了组装时间。
                紧凑体积:柔性电路板能有效降低产品体积,提升便携性,满足空间受限的应用需求。
                轻便设计:其轻盈的特性有助于减轻最终产品的整体重量,适用于对重量敏感的应用场景。
                灵活厚度:柔性电路板比传统PCB更薄,赋予了它卓越的柔软度,使得在有限空间内进行三维组装成为可能。
                自由度高:柔性电路板能够自由弯曲、卷绕和折叠,适应各种空间布局,实现元器件装配与导线连接的完美结合。
                优越性能:柔性电路板具备良好的散热性、可焊性以及易于装连的特点,同时其综合成本也相对较低。

        

                本篇是为了配合国家产业政策向广大企业、科研院校提供FPC电路板制造工艺汇编技术资料。资料中每个项目包含了最详细的技术制造资料,现有技术问题及解决方案、产品生产工艺、产品性能测试,对比分析。资料信息量大,实用性强,是从事新产品开发、参与市场竞争的必备工具。
         本篇系列汇编资料分为为精装合订本和光盘版,内容相同,用户可根据自己需求购买。



2025版《日本光刻胶制造工艺配方精选汇编》

2025版《日本光刻胶制造工艺配方精选汇编》

日本企业占据了全球光刻胶市场约70%到90%的份额,尤其在高端的ArF和EUV光刻胶领域,市场份额甚至超过90%。这些高端光刻胶是半导体制造中不可或缺的关键材料,直接影响芯片的性能和制造精度。

本篇资料收录了日本著名公司光刻胶制造专利技术,涉及:工艺、配方、制备方法等,是我国从事光刻胶行业研究生产单位的重要参考资料。

【资料内容】生产工艺、配方
【出品单位】国际新技术资料网
【资料语种】日文
【电  子 版】1680元(PDF文档 邮箱发送)
【联系电话】13141225688 梅兰(女士)

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日本企业占据了全球光刻胶市场约70%到90%的份额,尤其在高端的ArF和EUV光刻胶领域,市场份额甚至超过90%。这些高端光刻胶是半导体制造中不可或缺的关键材料,直接影响芯片的性能和制造精度。

本篇资料收录了日本著名公司光刻胶制造专利技术,涉及:工艺、配方、制备方法等,是我国从事光刻胶行业研究生产单位的重要参考资料。

【资料内容】生产工艺、配方
【出品单位】国际新技术资料网
【资料语种】日文
【电  子 版】1680元(PDF文档 邮箱发送)
【联系电话】13141225688 梅兰(女士)

目录

1半導体フォトレジスト用組成物およびこれを利用したパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
2フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト組成物および硬化物日油株式会社
3金属含有フォトレジスト現像液組成物、およびこれを利用した現像段階を含むパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
4金属含有フォトレジストのエッジビーズ除去用組成物または金属含有フォトレジストの現像液組成物、およびこれを利用したパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
5フォトレジスト上層膜用組成物およびこれを利用したパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
6半導体フォトレジスト用組成物およびこれを用いたパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
7金属含有フォトレジスト用現像液組成物、およびこれを用いた現像段階を含むパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
8有機塩、それを含むフォトレジスト組成物、及びフォトレジスト組成物を用いるパターン形成方法三星電子株式会社
9金属含有フォトレジスト用現像液組成物、およびこれを用いた現像工程を含むパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
10重合性化合物、酸発生剤、樹脂、及びフォトレジストサンアプロ株式会社
11有機金属化合物、フォトレジスト用感光材、及びフォトレジストサンアプロ株式会社
12スルホニウム塩、前記スルホニウム塩を含む酸発生剤、及び前記スルホニウム塩を含むフォトレジストサンアプロ株式会社
13金属含有膜形成用化合物、金属含有膜形成用組成物、パターン形成方法、及び半導体フォトレジスト材料信越化学工業株式会社
14電着フォトレジスト用塗料組成物株式会社シミズ
15カルボン酸塩、それを含むフォトレジスト組成物、及びそのフォトレジスト組成物を用いるパターン形成方法三星電子株式会社
16フォトレジスト剥離液ナガセケムテックス株式会社
17金属含有フォトレジスト現像液組成物、およびこれを用いた現像工程を含むパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
18フォトレジスト用剥離液及びこれを用いた基板の処理方法東京応化工業株式会社
19フォトレジスト剥離組成物関東化学株式会社
20電着フォトレジスト塗膜の剥離方法ハニー化成株式会社
21改良されたフォトレジスト製剤船井電機株式会社
22光酸発生剤、それを含むフォトレジスト組成物、及びそれを利用したパターン形成方法三星電子株式会社
23パターン化された有機金属フォトレジスト及びパターニングの方法インプリア・コーポレイション
24化合物、前記化合物を含む酸発生剤、フォトレジスト、及び前記フォトレジストを使用した電子デバイスの製造方法サンアプロ株式会社
25ノボラック型フェノール樹脂、ノボラック型フェノール樹脂の製造方法、及びフォトレジスト組成物明和化成株式会社
26複合フォトレジスト材料とその製造方法、および流体吐出ヘッド船井電機株式会社
27ネガ型レジスト樹脂組成物およびネガ型フォトレジスト樹脂組成物サンアプロ株式会社
28ノズルプレートの接着性を強化するためのフォトレジストイメージングおよび現像船井電機株式会社
29フォトレジスト組成物及びパターン形成方法ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー
30半導体フォトレジスト用組成物およびそれを用いたパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
31半導体フォトレジスト用組成物およびその製造方法、ならびにこれを用いたパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
32フォトレジスト樹脂の製造方法株式会社ダイセル
33フォトレジスト組成物、液体吐出ヘッド及び液体吐出ヘッドの製造方法キヤノン株式会社
34フォトレジストパターン形成方法東京応化工業株式会社
35フォトレジスト用のノボラック型フェノール樹脂およびその製造方法、ならびにフォトレジスト用の感光性樹脂組成物住友ベークライト株式会社
36フォトレジストの特性解析方法および特性解析装置フェムトディプロイメンツ株式会社
37フォトレジスト組成物およびその硬化物太陽インキ製造株式会社
38ネガ型カチオン性電着フォトレジスト用樹脂組成物及びそれを電着塗装してなる塗膜ハニー化成株式会社
39フォトレジスト用フェノール樹脂組成物及びフォトレジスト組成物明和化成株式会社
40厚膜用フォトレジスト組成物及び厚膜フォトレジストパターン形成方法東京応化工業株式会社
41単量体、フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト用樹脂組成物、及びパターン形成方法株式会社ダイセル
42フォトレジスト除去用組成物三菱ガス化学トレーディング株式会社
43フォトレジスト用組成物株式会社ダイセル
44フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト用樹脂の製造方法及びフォトレジスト組成物明和化成株式会社
45感光性樹脂組成物、これを用いたフォトレジストフィルム、及びレジストパターンの形成方法ニッコー・マテリアルズ株式会社
46フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト用樹脂の製造方法、フォトレジスト用樹脂組成物、及びパターン形成方法株式会社ダイセル
47重合性化合物、重合性組成物、重合体及びフォトレジスト用組成物JNC株式会社
48フォトレジスト用保護フィルム三菱ケミカル株式会社
49フォトレジスト及びフォトリソグラフィ日本化成株式会社
50フォトレジスト塗布装置トヨタ自動車株式会社
51化学増幅型フォトレジスト組成物サンアプロ株式会社
52化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物サンアプロ株式会社
53ネガ型フォトレジスト用樹脂組成物及び硬化膜サンアプロ株式会社
54光発生装置、光発生装置を備える露光装置、露光システム、光発生方法、及び露光フォトレジスト製造方法公立大学法人兵庫県立大学
55誘導自己組織化用の化学テンプレートを形成するための硬化フォトレジストのUV支援剥離東京エレクトロン株式会社
56ネガティブトーン現像剤相溶性フォトレジスト組成物及び使用方法トーキョー エレクトロン ユーエス ホールディングス,インコーポレーテッド
57機能構造体製造方法及びフォトレジスト処理装置ウシオ電機株式会社
58ポジ型フォトレジスト住友精化株式会社
59コーティング用組成物およびフォトレジスト積層体の製造方法旭硝子株式会社
60フォトレジスト組成物及びこれを利用する微細パターン形成方法三星電子株式会社
61フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト樹脂の製造方法、フォトレジスト用樹脂組成物、及びパターン形成方法株式会社ダイセル
62フォトレジストフィルム、レジストパターンの形成方法、および導体パターンの形成方法ニッコー・マテリアルズ株式会社
63ドライフィルムフォトレジスト支持体二軸配向ポリエステルフィルム東レ株式会社
64アルコール誘導体、アクリル酸エステル誘導体、混合物、高分子化合物およびフォトレジスト組成物株式会社クラレ
65コーティング用組成物の製造方法およびフォトレジスト積層体の製造方法AGC株式会社
66フォトレジスト成分濃度測定装置および濃度測定方法パナソニックIPマネジメント株式会社
67ポジ型フォトレジスト組成物東京応化工業株式会社
68フォトレジスト組成物並びにそれを用いたドライエッチング用マスク及び積層体旭化成イーマテリアルズ株式会社
69半導体基板処理装置、フォトレジストを剥離する方法、および半導体装置の製造方法セイコーインスツル株式会社
70フォトレジスト用活性エネルギー線硬化性組成物ダイセル・オルネクス株式会社